期刊文献+

棉盖涤布类活性印花底纱露面原因探究

下载PDF
导出
摘要 棉盖涤活性印花织物因为其良好的服用性能而得到消费者喜爱。在工厂生产中,棉盖涤的织物在经过活性印花及洗水工序后,经常会出现底纱即涤纶露面现象,严重影响织物的视觉效果。现从棉盖涤活性印花生产的主要步骤对底纱露面现象进行原因探究。
作者 陈楠 张飞宇
出处 《轻纺工业与技术》 2012年第4期24-25,共2页
  • 相关文献

参考文献5

  • 1王菊生;孙铠.染整工艺原理[M]北京:中国纺织出版社,1983145.
  • 2王菊生.染整工艺原理[M]北京:中国纺织出版社,1984146.
  • 3吴立.染整工艺设备[M]北京:中国纺织出版社,1995147.
  • 4陈立秋.染整新型工艺设备[M]北京:中国纺织出版社,200233.
  • 5宋心远.新型染整技术[M]北京:中国纺织出版社,199954-58.

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部