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CPSA超细微粒助留、助滤剂的应用
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摘要
研究了CPAM(阳离子聚丙烯酰胺)/自制的CPSA胶体硅微粒子助留、助滤体系在造纸过程中的应用。结果表明,在CPAM和阴离子胶体硅的用量分别为0.25 kg/t和0.2 kg/t即有明显助留、助滤效果,随着CPAM和阴离子胶体硅用量增加,助留、助滤效果随之提高。文中对药品的用量、体系pH值、电解质含量、AKD加入等因素的影响进行了讨论。
作者
胡永明
机构地区
杭州华丰纸业有限公司
出处
《华东纸业》
2012年第4期40-43,共4页
Shanghai Paper Making
关键词
助留
助滤体系
胶体硅
阳离子聚合物
分类号
TS727 [轻工技术与工程—制浆造纸工程]
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华东纸业
2012年 第4期
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