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EDW ARDS发布用于LED和化合物半导体制造的新型真空泵
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摘要
英国西萨塞克斯郡,克劳雷(2012年7月3日)全球领先的高精真空设备和尾气处理系统制造商及相应增值服务供应商Edwards公司宣布推出新的iXH645H干泵,新设备经过优化,适用于LED%造中使用的MOCVD工艺,以及在栅堆叠(gatestack)中使用III—V材料的化合物半导体制造工艺。
机构地区
隽科
出处
《塑料制造》
2012年第9期60-60,共1页
Plastics Manufacture
关键词
半导体制造工艺
化合物
LED
真空泵
MOCVD工艺
尾气处理系统
服务供应商
真空设备
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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1
EDWARDS将在2014SEMICON^R CHINA展会上展示世界领先的真空设备和尾气处理系统[J]
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2
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3
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.塑料制造,2012(10):54-54.
4
Edwards在SEMICONChina2012展会上展示先进真空技术[J]
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5
李刚,曾德辉.
MOCVD用MO源的发展概况和研究方法[J]
.低温与特气,1990,8(1):5-12.
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6
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7
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.办公自动化(综合月刊),2014(4):19-19.
8
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.四川真空,1990(3):20-23.
9
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10
李晓峰.
CVD工艺尾气处理系统[J]
.微电子学,1995,25(3):35-39.
塑料制造
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