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通过破碎和HDDR法制备粘结Sm-Fe-(Ta)-N材料 被引量:1

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摘要 为了确定Ta作为SmFe基永磁材料的一种可能添加物,将Sm13.8Fe82.0Ta4.0合金与传统的Sm13.7Fe86.3二元材料进行比较。研究了为获得最高矫顽力所需的最佳条件,采用HDDR(氢破碎法)工艺和破碎后再进行HDDR的工艺。采用HDDR工艺然后氮化(渗氮)所获得的矫顽力,SmFeTaN为680KA/m,SmFeN为360kA/m;把颗粒预破碎至约5μm再进行HDDR工艺,SmFeN的矫顽力为1010kA/m,SmFeTaN的矫顽力为1280kA/m.比较了相成份与磁性能的关系.使用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)测定相成份,用扫描电镜测定重新结合的材料之晶粒尺寸.发现含Ta样品之所以获得较高的矫顽力是因为形成的TaFe2相取代了软磁相α-Fe相.由于先破碎再进行HDDR工艺获得了较细的颗粒,因而改善了磁性能,这种工艺方法实际上是阻碍了大颗粒生长,而大颗粒对矫顽力起到很大的负作用。
作者 李立严
出处 《电工合金》 2000年第2期40-43,共4页
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