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分析抛光砖在抛光过程中表面变形的原因

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摘要 本文通过数字化的方式,对摆动抛光机抛瓷质砖的过程进行了分析,建立了数学模型,并通过电脑模拟出抛光过程中砖的横向抛削曲线。同时,详细研究了抛光机对砖的平整度的影响,分析了中间抛得深、两边抛得浅的原因,并提出了相应的解决方案。
作者 潘威
出处 《佛山陶瓷》 2012年第9期35-39,共5页 Foshan Ceramics
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