摘要
基于部分相干成像理论 ,考虑了投影曝光系统成像的非线性滤波特点 ,分析了投影光刻中的光学邻近效应 (OPE)产生的机理 ,模拟了掩模上线条的线宽、线间距的变化对光刻成像质量的影响。
Based on partial coherent imaging theory and nonlinear filter characteristic of projection system for the aerial image,we analyze the physical mechanism on Optical Proximity Effect.The simulation imaging patterns of the different line or space width are given for analyzing image quality.
出处
《激光杂志》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第4期43-45,共3页
Laser Journal
基金
国家自然科学基金
教育部博士点基金
微细加工光学技术国家重点实验室基金资助项目