摘要
主要介绍PDP中的MgO保护膜及各种制造方法，并对新型MgAl_2O_3保护膜作了简单介绍。
Both new type protecting films in the PDP and their new forming methods are introduced in this paper.
出处
《光电子技术》
CAS
2000年第2期138-144,共7页
Optoelectronic Technology
关键词
保护膜
等离子体
氧化镁
protecting film, secondary electron emission, chemical solution deposition, transmission coefficient, firing voltage
