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激光退火对碲镉汞电性能的影响

INFLUENCE OF LASER ANNEALIN G ON ELECTRICAL PROPERTIES OF HgCdTe
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摘要 利用YAG脉冲激光器 (脉宽为 1 0ns ,波长为 1 .0 6μm)对砷注入长波碲镉汞样品进行激光退火 ,分析离子注入及激光退火引起的样品电学性质的变化 ;通过对电导率 -迁移率谱的研究 ,发现激光退火能够消除辐射损伤 ,并激活注入杂质 . Arsenic implanted HgCdTe samples with long cutoff wavelength were annealed [CM(38]using the pulsed YAG laser irradiation me thod (pulse duration is 10ns, wavelength is 1.06μm). Experiments had been done to analysis the changes of electricity properties of the samples after implanted and annealed. The conductivity mobility spectrum was discussed. We thought that laser annealing could eliminate radiation damage and activate implant.
出处 《山东大学学报(自然科学版)》 CSCD 2000年第2期193-197,共5页 Journal of Shandong University(Natural Science Edition)
基金 山东省优秀中青年科学家奖励基金资助课题!( 980 2 )
关键词 HGCDTE 激光退火 迁移率谱 电性能 半导体 HgCdTe laser annealing mobility spectrum
  • 相关文献

参考文献3

  • 1李向阳,博士学位论文,1998年
  • 2胡燮荣,第十二届全国红外科学技术交流会论文集,1996年,108页
  • 3北京市辐射中心,离子注入原理和技术,1982年

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