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英特尔与ASML加速开发下一代半导体关键制造技术
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摘要
英特尔公司宣布与ASML控股公司签署一系列价值总计33亿欧元(约41亿美元)的协议,以加速450毫米晶圆技术和超紫外线(EUV)光刻技术的开发,力争提前两年实现支持这些技术的光刻设备的产业化应用,从而为半导体制造商大幅降低成本并提高生产力。
出处
《集成电路通讯》
2012年第3期6-6,共1页
关键词
半导体制造商
英特尔公司
制造技术
开发
光刻技术
超紫外线
光刻设备
产业化
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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集成电路通讯
2012年 第3期
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