期刊文献+

Pd-Co合金电镀 被引量:3

下载PDF
导出
作者 蔡积庆
机构地区 南京无线电八厂
出处 《电镀与环保》 CAS CSCD 北大核心 2000年第4期18-19,共2页 Electroplating & Pollution Control
  • 相关文献

同被引文献64

  • 1钟美娥,何莉萍,肖耀坤,陈宗璋.电沉积钯钴合金的工艺研究[J].材料保护,2006,39(6):26-29. 被引量:5
  • 2迟广俊 冯钊永 等.电沉积制备Cu/Co纳米金属多层膜与多层纳米线.材料保护,2002,35(10):197-200.
  • 3屠振密 安茂忠 等.电镀合金的前景及应用.材料保护,1992,25(11):8-8.
  • 4姚素薇 赵瑾 等.在Si(111)上电沉积Cu/Co超晶格多层膜及其巨磁电阻效应.材料保护,2002,35(10):203-204.
  • 5Subramanian A, Vasudevan T, et al. Amorphous Cobalt-Boron Electrodeposition & Dissolution [ J ]. Tran Inst Metal Fin.,2001, 79(3) : 119.
  • 6N.Fenineche,A.M.Chaze,et al.Effects of pH and Density on the Magnetic Properties of Electrodeposited Co-Ni—P Alloys[J].Surface and Coatings Technology,1996,88:264—268.
  • 7Tetsuya Osaka, Takahiro Sawaguchi, et al. Effects of Saccharin and Thiourea on Sulfur Inclusion and Coercivity of Electroplated Soft Magnetic CoNiFe Film [J]. Journal of the Electrochemical Society, 1999, 146(9):3295-3299.
  • 8Zhuang Y, Podlaha E.J. NiCoFe Ternary Alloy Deposition. I .An Experimental Kinetic Study [J]. Journal of the Electrochemical Society, 2000, 147(6) :2231-2237.
  • 9L. Orlovskaja, E. Matulionis, et al. Electrocrystallization of Magnetic Co-W-Mn Films [J]. Surface and Coatings Technology, 2000, 135: 34-41.
  • 10P. L. Cavallotti, N. Lecis et al. EleCtrodeposition of Magnetic Multilayers [J]. Surface and Coatings Technology, 1998, 105:232-239.

引证文献3

二级引证文献9

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部