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Vishay发布应用于国防和航天的新款QPL氮化钽薄膜片式电阻
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摘要
目前,Vishay Intertechnology,Inc.(NYSE)宣布,推出通过QPLMIL—PRF-55342测试的新款表面贴装片式电阻——E/H(Ta2N)QPL,保证可靠性达到100ppm的“M”级失效率。新的E/H(Ta2N)QPL电阻使用耐潮的氮化钽电阻膜技术制造,为国防和航天应用提供了增强的性能规格,包括0.1%的容差和25ppm/℃的TCR。
出处
《电子设计工程》
2012年第22期29-29,共1页
Electronic Design Engineering
关键词
氮化钽薄膜
片式电阻
航天应用
国防
表面贴装
性能规格
INC
失效率
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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电子设计工程
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