光致抗蚀剂的国内外发展动向
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2金桂林,金晓英,潘孝仁,金乾元,陈卫红.一种新型的负型激光光致抗蚀剂[J].应用激光,1993,13(1):19-22. 被引量：1
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3穆启道,曹立新.光刻技术的发展与光刻胶的应用[J].集成电路应用,2003,20(6):69-75. 被引量：13
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5白荣宗.国内外光刻胶处理装置的发展概况[J].半导体技术,1991,7(5):8-11. 被引量：1
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9文汉,金阁.集成电路用抗蚀剂[J].电子材料（机电部）,1991(7):1-21.
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