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四平昊华电解槽将进行膜极距改造

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摘要 四平吴华即将对20万t/a离子膜法烧碱装置进行技术改造,NBH-2.7型离子膜电解槽将升级改造为膜极距电解槽,这是该企业自生产烧碱以来的又一次技术改造。
出处 《氯碱工业》 CAS 2012年第11期47-47,共1页 Chlor-Alkali Industry
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