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四平昊华电解槽将进行膜极距改造
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摘要
四平吴华即将对20万t/a离子膜法烧碱装置进行技术改造,NBH-2.7型离子膜电解槽将升级改造为膜极距电解槽,这是该企业自生产烧碱以来的又一次技术改造。
出处
《氯碱工业》
CAS
2012年第11期47-47,共1页
Chlor-Alkali Industry
关键词
离子膜电解槽
技术改造
离子膜法
极距
四平
烧碱装置
升级改造
分类号
TQ114.262 [化学工程—无机化工]
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氯碱工业
2012年 第11期
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