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清除硅片表面磷硅、硼硅玻璃层的新方法

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摘要 一般生产硅二极管厂家,大都采用两次扩散法在硅片表面上形成PN结,经高温扩散后的硅片表面会形成一层磷硅玻璃层和硼硅玻璃层,这两种玻璃层往往采用喷砂法加以去除,然后转入下道工序。从电化学角度入手应用电解的方法去除硅表面磷硅玻璃层和硼硅玻璃层获得成功,经几年应用,效果明显,下面对此工艺作一介绍。
作者 沈德荣
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1991年第2期53-54,共2页 Semiconductor Technology
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