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CMOS集成电路与栅氧有关的突然失效
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摘要
本文探讨了CMOS晶体管在静态偏压-温度老化下产生的突然失效。在试验时出现的失效模式是栅和衬底之间发生的短路,以及栅开路。随后失效分析揭示了铝与栅氧之间互相作用是失效机理。最后指出P^+区的缺陷是引起所观察到的失效现象的原因。
作者
王恩德
机构地区
中国微电子中心
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1991年第2期27-29,共3页
Semiconductor Technology
关键词
CMOS
集成电路
栅氧
失效
可靠性
分类号
TN432.06 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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半导体技术
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