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国外光刻设备市场概况及发展趋势(续)
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摘要
泛。对于给定的分辨率来说。其焦深远比紫外大得多。IBM公司最早将此技术应用于Perkin-Elmer公司的扫描投影光刻机上;西德的Karlsuss也早已有市售的准分子激光接触/接近式光刻机。
作者
童志义
机构地区
机电部四十五所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1991年第4期18-21,共4页
Semiconductor Technology
关键词
光刻设备
半导体器件
市场
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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半导体技术
1991年 第4期
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