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沉积条件和内应力对a-Si:H膜光致发光谱的影响
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摘要
实验研究表明,a-Si:H薄膜的光致发光谱随沉积条件,内应力的变化十分敏感。当射频功率、偏压及内应力增大时,发光峰值能量向低能方向移动,半宽带展宽,并且发光强度略有下降。文中对这些实验结果进行了解释。
作者
王万录
高锦英
廖克俊
机构地区
兰州大学物理系
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1991年第5期31-33,共3页
Semiconductor Technology
关键词
a-Si:H膜
沉积
内应力
发光谱
分类号
TN304.8 [电子电信—物理电子学]
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王万录,廖克俊.非晶态异质结构a-Si:H/a-SiN_x:H和a-Si:H,a-SiN_x:H薄膜的应力研究[J]物理学报,1987(12).
半导体技术
1991年 第5期
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