实现无尘化的唯一途径是组建全自动化生产线

1 无尘化问题的提出 九十年代半导体处于超大规模集成电路(VLSI)向特大规模集成电路(ULSI)过渡阶段。在此阶段中芯片加工有两大特点,一是加工条宽越来越细,1989年初日本东芝、日电、三菱、NTT、富士通等公司相继研制成功16MDRAM,最小条宽0.4～0.6μm,日本通产省电子工业中期恳谈会报告书预测,九十年代中期可达64MDRAM,最小条宽为0.3～0.4μm,2000年可达1GDRAM。