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高质量应变层InGaAs/AlGaAs调制掺杂结构的研究 被引量:1

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摘要 本文系统地研究了应变层InGaAs/AlbaAs调制掺杂材料的生长,提出了生长高质量调制掺杂结构的关键措施。应用该材料制作PHEMT器件可得到良好结果。12GHz下噪声系数达到0.68dB,其相关增益大于7dB。
出处 《半导体情报》 1991年第6期21-23,25,共4页 Semiconductor Information
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  • 1周文政,林铁,商丽燕,黄志明,朱博,崔利杰,高宏玲,李东临,郭少令,桂永胜,褚君浩.双δ掺杂In_(0.65)Ga_(0.35)As/In_(0.52)Al_(0.48)As赝型高迁移率晶体管材料子带电子特性研究[J].物理学报,2007,56(7):4143-4147. 被引量:1
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引证文献1

二级引证文献1

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