我国最新一代集成电路制造工艺研发取得突破性进展

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摘要中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心在22纳米技术代集成电路关键技术研发上取得突破性进展。掌握这种最先进的集成电路制造工艺将有利于提升我国自主生产制造更加质优价廉的集成电路产品的能力。采用22纳米集成电路技术可以在一根头发丝的横截面上集成大约1000万个晶体管，从而使集成电路产品的功能更多样化，

出处《纳米科技》 2012年第6期89-89,共1页

关键词集成电路制造工艺研发中心突破性纳米技术集成电路技术电子研究所中国科学院生产制造

分类号 TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]

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1田亚平.我国首个ZnO纳米棒场效应晶体管研制成功[J].今日电子,2009(3):27-27.
2China's first ZnO nanorod field-effect transistor developed at CAS[J].Bulletin of the Chinese Academy of Sciences,2009,23(1):17-17.
3海峡两岸微米纳米科技研讨会在京开幕[J].中国科技奖励,2008,16(10):79-79.
4Mark J. Jackson,程恩隽.微纳米加工技术[J].国外科技新书评介,2008(9):6-7.
5贺敬安.CCD摄像机中的新功能[J].青海气象,2003(3):53-54.
6魏天飞.中国包装总公司聘请姚建铨院士为物联网技术首席科学家[J].中国包装工业,2010(7):82-82.
7黄元森.两位科学家的纳米情结[J].百科知识,2003(10):24-26.
8纳米电子时代可望提前到来[J].中国科技画报,2002(3):9-9.
9王恒,廖红.用纳米绳索把人类拉上月球[J].纳米科技,2004,1(1).
10中国科大成功研制“纳米电缆”[J].中小企业科技,2005(7):43-43.

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