脉冲激光沉积碳薄膜生长中氢气的作用

采用石墨靶，通过脉冲激光沉技术在２０℃的玻璃和硅衬底上沉积出厚度为１００ｎｍ的碳薄膜，所用的激光泊是ＡｒＦ激光（λ－１９３ｎｍ，２４ｎｓ）。通过调节氢气流量使反应室的压力在１．３３×１０＾－５～１３３Ｐａ之间变化，拉曼光谱测量显示有－１５００ｃｍ＾０－１为中心的宽峰，这与用其他方法蛊的典型类金刚石碳（ＤＬＣ）膜相类似，随着增大氢气压力，膜的吸收系数减小，而光带隙增大。