微波等离子化学气相沉积金刚石膜涂层氮化硅刀具

金刚石的成核和生长影响金刚石膜的质量。本文用自制的一种新型的不锈钢谐振腔型微波等离子ＣＶＤ设备，等离子直径为７６ｍｍ，均匀的温度分布使得金刚石膜使得金刚石膜均匀生长，在不同工艺条件下研究Ｓｉ３Ｎ４陶瓷刀具上金刚石涂层的成核质量，用ＳＥＭ，Ｒａｍａｎ检测和分析研究了在Ｓｉ３Ｎ４刀具有高速高质量生长金刚石膜涂层的制备工艺，并检测了涂层刀具的切性能，切削试验表明，在切削１８ｗｔ％Ｓｉ－Ａｌ合金时。