期刊文献+

亚稳态CVD合成金刚石的机理 被引量:3

下载PDF
导出
出处 《薄膜科学与技术》 1991年第3期69-76,共8页
  • 相关文献

同被引文献13

  • 1朱晓东,詹如娟.金刚石薄膜的形貌分析及(100)面择优生长[J].真空科学与技术,1995,15(6):420-423. 被引量:3
  • 2朱宏喜,毛卫民,冯惠平,吕反修,Vlasov I I,Ralchenko V G,Khomich A V.甲烷浓度对CVD金刚石薄膜晶体学生长过程的影响[J].无机材料学报,2007,22(3):570-576. 被引量:9
  • 3Chu C J,J Appl Phys,1991年,70卷,1695页
  • 4REGEL L L, WILCOX W R. vapor transport [J].Acta Diamond film deposition by chemical Astronautica, 2001, 48 (2/3) : 129- 144.
  • 5YU Z, FLODSTROM A. Pressure dependence of growth mode of HFCVD diamond [J].Diamond and Related Materials, 1997, 6 (1): 81-84.
  • 6HURLED T J. Handbook of crystal growth [M] //SRITSYN BV. Raman scattering characterization of (100) and ( 111 ) oriented diamond films grown in the same run by hot filament chemical va- por deposition. Michigan: Elsevier Science, 1994: 419.
  • 7CHOWDHURY S, I.AUGIER M T, HENRY J. XRD stress analysis of CVD diamond coatings on SiC substrates [J]. In ternational Journal of Refractory Metals and Hard Materials, 2007, 25 (1): 39-45.
  • 8BUHI.ER J, PRIOR Y. Study of morphological behavior of single diamond crystals[J]. Journal of Crystal Growth, 2000, 2(19 (4): 779-788.
  • 9KUANG Y, BADZIAN A, TSONG T, et al. Scanning tun neling microscopy study of antiphase boundaries on the (001) surface of homoepitaxial diamond films [J]. Thin Solid Films, 1996, 272 (1):49-51.
  • 10黄树涛,张志军,姚英学,袁哲俊.燃焰法沉积高品质透明金刚石薄膜的研究[J].人工晶体学报,1999,28(1):74-78. 被引量:11

引证文献3

二级引证文献8

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部