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Si基有机异质结势垒特性的研究 被引量:10

Investigation on Barrier Characteristics for Si-based Compounds
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摘要 在电阻率为 0 .2Ω·cm的 p -Si衬底上沉积了厚度为 2 0nm的有机半导体材料 艹北 四甲酸二酐 (PTCDA)薄膜 ,由此形成有机 /无机异质结。从它们的能带结构出发 ,通过实验测试分析了这种有机 /无机半导体异质结 (OIHJ)的电容 -电压及电流 -电压特性。 An organic/inorganic heterojunction(OIHJ) has been formed with 200 nm thick PTCDA film prepared by vacuum-deposition on p-Si substrate whose resistivity is 0.2 Ω·cm.Based on its energy band structure,experimantal measurements and analysis are carried out on capacitance-voltage and current-valtage characteristics for OIHJ carriers.
出处 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期182-185,共4页 Semiconductor Optoelectronics
基金 国家自然科学基金资助项目! (6 96 76 0 10 )
关键词 硅基复合材料 异质结势垒 有机半导体材料 Si-based compounds heterojunction barrier characteristics
  • 相关文献

参考文献4

  • 1Bulovic V,Appl Phys Lett,1997年,70卷,20期,2954页
  • 2Zhang Fujia,Semicondcutor Photonics Technology,1997年,3卷,4期,248页
  • 3Forrest S R,J Appl Phys,1988年,64卷,1期,399页
  • 4黄振岗(译),半导体器件物理,1987年,177页

同被引文献47

引证文献10

二级引证文献8

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