期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息

Mo/B_4C软X射线多层膜结构特性研究 被引量：1

STRUCTURAL CHARACTERISTIC OF Mo/B_4C SOFT X-RAY MULTILAYER MIRRORS
下载PDF
导出
摘要 在 6.7<λ<1 0 .0 nm波段选择 Mo/ B4 C作为多层膜材料 ,并采用磁控溅射法制备出多层膜样品 .这些多层膜样品的周期结构为 3 .3 5 nm～ 5 .5 2 nm.采用 X射线衍射仪和透射电镜 (TEM)对样品的微观结构进行研究 .结构表明 ,这些多层膜样品的结构质量很高 ,并有很好的热稳定性 . The Mo/B 4C multilayer system is selected for 6.7<λ<10.0nm X rays.Mo/B 4C multilayers are deposited by magnetron sputtering.The period thicknesses of these samples are from 3.35nm～ 5.52nm.Details in the microstructure of Mo/B 4C multilayer samples are revealed using X ray diffraction and TEM.The results show that these multilayer mirrors have high structural quality and thermal stability.
作者 吕俊霞 马月英 裴舒 陈星旦 曹健林
机构地区 同济大学物理系玻耳固体物理研究所 中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室
出处 《光子学报》 EI CAS CSCD 2000年第5期459-461,共3页 Acta Photonica Sinica
基金 国家自然科学基金 863资助项目&&
关键词 Mo/B4C 多层膜 软X射线 Mo/B 4C Multilayer mirrors Soft X ray
分类号 O484.1 [理学—固体物理]
  • 相关文献

参考文献7

  • 11，Schafers F,Grioni M,Wood J,et al.Application of W/Si multil ayer for monochromation of soft X-ray syntchrotron radiation.Proc.SPIE,1988,984 (1):23～28
  • 22，Stearns D G,Rosen R S and Vernon S P,Multilayer mirror technology for soft X-ray projection lithography.Appl Opt,1993,32(34):6952～6959
  • 33，Montcalm C,Kearney P A,Slaughter J M,Sullivan B T,Chaker M,Pepin H， Falco C M.Survey of Ti-,B-,and Y-based soft X-ray-extreme ultraviolet mult ilayer mirrors for the 2 to 12nm wavelength region.Appl Opt,1996,35(25):5134 ～5141
  • 44，Montcalm C,Sullivan B T,Duguay S,et al.In situ reflectance measurement s of soft X-ray/extreme-ultraviolet Mo/Y multilayer mirrors.Opt Lett,1995,20(1 2):1450～1452
  • 55，Jankowski A F,Perry P L.Characterization of Mo/B4C multilayers.Thin Sol id Films,1991,206(1-2):365～368
  • 66，Jankowski A F,et al.Interfacial bonding in W/C and W/B4C multilayers .J Vac Sci Technol,1989,A7(4):2914～2918
  • 77，Barbee T W.Multilayers for X-ray optics.Proc SPIE,1985,563:2～21

同被引文献11

  • 1Brown C M, Feldman U, Seely J F, et al. Imaging of laser-produced plasmas at 44 A using a multilayer mirror[J]. Opt Commun, 1988, 68:190-195.
  • 2Nemeehek J J. Mieroeleetronies industry optimizes operations with ultraviolet optics[J]. Laser Focus World, 1995, 31(4) : 113-118.
  • 3Masahito N, Hajime N, Yosohiro S. Stress changes and stability of sputter-deposited Mo/B4C multilayer films for extreme ultraviolet mirrors[J], JpnJAppl Phys, 2002, 41:3069-3075.
  • 4Stearns D G, Rosen R S. Normal-incidence X-ray mirror for 7 nm[J]. Opt Lett, 1991, 16(16) : 1283-1285.
  • 5Yamamoto M, Namioka T. Layer-by-layer design method for soft-X-ray multilayers[J]. Appl Opt, 1992, 31(10) : 1622-1630.
  • 6Slaughter J M, Kearney P A, Falco C M. Characterization of Pd-B, Ag-B and Si-B Interfaces[C]. Proc of SPIE. 1991, 1547:71-79.
  • 7Windt D L, Donguy S, Seely J, et al. EUV multilayers for solar physics[C].Proc of SPIE. 2004, 5168:1-11.
  • 8Jankowski A F, Perry P L. Characterization of Mo/B4C muhilayers[J]. Thin Solid Films, 1991, 206(1-2):365-368.
  • 9Jankowski A F, schrawyer L R, Wall M A, et al. Interracial bonding in W/C and W/B4C multilayers[J]. J Vac Sci Technol A, 1989, 7 (4) : 2914-2918.
  • 10http,//www, henke, lbl. gov/optical_constants/getdb2, html[OL]. 2007-08-06.

引证文献1

二级引证文献6

光子学报
2000年 第5期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部