Mo_2C膜表面快速粗糙化现象研究被引量：5

RAPID ROUGHENING OF Mo_2C FILM SURFACE

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摘要介绍了Mo2 C膜表面粗糙度的测量结果 ,引入晶粒边界修正 ,对Mo2 C膜的表面快速粗糙化现象给予理论解释 . The roughness of Mo\-2C film surface is measured and the results are given.By introduction of crystalline boundary correction,the rapid roughening phenomenon is explained theoretically.

作者郑瑞伦冉扬强陈洪平荣刚

机构地区西南师范大学物理系中国科学院高能物理研究所

出处《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第7期1335-1343,共9页 Acta Physica Sinica

关键词 MO2C膜快速粗糙化粗糙化指数 Mo\-2C thin film, rapid roughening, roughness exponent

分类号 O484 [理学—固体物理]

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物理学报

2000年第7期

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