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中芯国际背照式成像传感技术取得突破
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摘要
中芯国际近期宣布在背照式CMOS成像传感技术研发领域取得突破性进展,首款背照式CMOS成像传感测试芯片一次流片即获得成功,在低照度下同样可获得高质量的清晰图像。这标志着中芯国际自主开发的背照式CMOS成像传感芯片全套晶圆工艺核心技术接近成熟.步入产业化阶段,更好地满足高端智能移动终端的需要。
出处
《集成电路应用》
2013年第1期46-46,共1页
Application of IC
关键词
传感技术
背照式
成像
国际
CMOS
智能移动终端
传感芯片
产业化阶段
分类号
TN432 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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集成电路应用
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