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双极型集成电路的版图设计工艺 被引量:1

The double pole integrated circuit shallowly the domain design craft
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摘要 随着信息科技的发展,双极型集成电路得到广泛应用,双极型集成电路的版图设计工艺成了改进集成电路性能的一个指标。可从版图设计原则、整体版图设计、元件版图设计、布局布线几个方面对双极型集成电路版图设计工艺进行研究。 With the development of information technology, bipolar integrated circuits widely, bipolar integrated circuit layout design process has also become an indicator of improving the performance of integrated circuits, from the principles of layout design, the whole landscape design, landscape design, component placement and routing aspects of bipolar integrated circuit layout design process are deseussed.
作者 周家萍
出处 《兴义民族师范学院学报》 2012年第6期109-112,共4页 Journal of Minzu Normal University of Xingyi
关键词 双极型集成电路 制造工艺 版图设计 Double pole integrated circuit manufacturing engineering the domain design
  • 相关文献

参考文献2

  • 1Alan Hastings.The Art of Analog Layout[M].北京:清华大学出版社,2004.
  • 2B.-S.Song and P.R.G ray," A Precision Curvature-Compensated CMOs Bandgap Refer- ence,"I EEE Journal of Solid-State Circuits, 1983vol.SC-18, p.634- 643.

同被引文献1

引证文献1

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