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酸性蚀刻线宽补偿与蚀刻因子、铜厚及线间距关系研究 被引量:6

Research on relationships between line width compensation & e-factor/copper thickness/line space in acid-subtractive process
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摘要 文章从蚀刻因子,铜厚以及线间距入手,研究了线宽补偿和这三个因素的关系,并使用公式表述,从而可指导酸性蚀刻减成法线宽补偿的工程设计,并为后续研究103μm(3oz/ft2)以上厚铜板的补偿提供了方向。 This paper has done a research on line width compensation of subtractive process in PCB industry. Pointing out the relationships between compensation and E-factor, copper thickness and line space, it uses 3 formulas to express them. The results do not only supply us guidance for compensation design before manufacturing, but also show us a research direction about thick copper board's compensation.
出处 《印制电路信息》 2013年第4期88-99,共12页 Printed Circuit Information
关键词 蚀刻因子 补偿量 铜厚 线间距 动态补偿 E-factor Compensation Copper Thickness Space Dynamic Compensation
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献2

  • 1张怀武.现代印制电路原理与工艺.2006:172
  • 2IPC-600g

共引文献10

同被引文献18

引证文献6

二级引证文献8

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