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场致电子发射技术分析 被引量:6

Reseach of Field Electron Emission Technology
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摘要 本文介绍了场致发射的机理及场致发射的几种不同类型的阴极 ,叙述了类金刚石薄膜作为场致发射阴极的优点 ,最后对场致发射的应用进行了分析。 In this paper, the theory of field electron emission and the charcteristics of field emission emitters are introduced. The advantage of diamond like film is described. The applications of field emission device are also introduced.
出处 《电子器件》 CAS 2000年第3期210-213,共4页 Chinese Journal of Electron Devices
关键词 场致发射 阴极 类金刚石薄膜 场致发射器件 field emission, field emission emitter, diamond like thin film, field emission device.
  • 相关文献

参考文献8

  • 1 Fowler R H andNordeim L W. 1928 Proc R soc, [M]London A 173
  • 2 Spindt C A, et al. J vac Sci Technolgy, [J]1993;B:387
  • 3 Okano K, et al. Nature, [J]1993;381:140
  • 4 zhu W, et al. J Appl Phys, [J]1997;2707
  • 5 Collins P G, Zettl A. Appl Phys Lettl, [J]1996;69:1969
  • 6Park R K, et al. In:10th IVMC Technical Digest, [M]92
  • 7Imura H, Tsuida S, et al. IEDM′97, Technical Digest [M].
  • 8罗恩泽等.电子元件,:1-7.

同被引文献58

引证文献6

二级引证文献16

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