期刊文献+

Al_2O_3陶瓷表面的准分子激光活化沉积金属Cu技术 被引量:1

Excimer laser induced surface activation of alumina ceramics for electroless copper deposition
下载PDF
导出
摘要 本文研究了通过XeCl准分子激光照射Al2 O3陶瓷表面后 ,使其表面沉积金属Cu的技术。实验结果表明 ,Al2 O3试样浸入Cu2 SO4 溶液后 ,金属Cu膜只沉积于激光照射区。经准分子激光照射 ,Al2 O3 表面结构的变化和Al富集区的产生是金属Cu沉积的主要原因。 In this presentation,selective Cu deposition on alumina(Al 2O 3)after XeCl excimer laser irradiation was described.After immersion in Cu 2SO 4 solution,the metal films of Cu Were only deposited on the laser irradiated area.Following excimer irradiation,modification of surface crystalline structure and formation of Al rich area are the main reasons for deposition of Cu on alumina.
出处 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2000年第5期43-44,共2页 Laser Journal
基金 国家自然科学基金资助
关键词 准分子激光 铜膜 陶瓷 氧化铝 表面 活化沉积 excimer laser,Al_2O_3,the films of Cu,Al rich area
  • 相关文献

参考文献1

  • 1Jun Yingzhang,Appl Surf Sci,1997年,109/110卷,253页

同被引文献6

  • 1辜志俊,赵雄超,郭琦龙,洪艳萍,邓群山,陈人欢.陶瓷微细镀覆新技术的研究[J].电化学,2005,11(1):42-45. 被引量:2
  • 2续振林,郭琦龙,沈艺程,赵雄超,洪艳萍,辜志俊.陶瓷表面无敏化活化法微细化学镀铜[J].电化学,2005,11(2):193-198. 被引量:7
  • 3Natividad E,Lataste E,Lahaye M,et al.Chemical and morphological study of the sensitization,activation and Cu electroless plating of Al2O3 polcrystalline substrate[J].Surface Science,2004,557:129 ~ 143.
  • 4赵雄超,郭琦龙,辜志俊,等.陶瓷基底微细镀覆Cu新技术研究[A].第十二次全国电化学会议论文集[C].上海:出版者不详,2003:G25.
  • 5Zhang J Y,Boyd I W,Esrom H.Excimer laser-induced surface activation of alumina for electroless metal deposition[J].Applied Surface Science 1997,109/110:253 ~ 258.
  • 6Shafeev G A.Laser-assisted activaton of dielectrics for electroless metal plating[J].Applied Physics A,Materials Science & Processing,1998,67:303 ~ 311.

引证文献1

二级引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部