应用材料新检测设备支持10nm

应用材料宣布推出新世代的缺陷检测及分类技术，加速达成10nm及以下的顶尖芯片生产良率。SEMVisionG6系统独特的多维影像分析功能为半导体制造提供最高分辨率及影像质量，先进的系统设计与全自主式功能，能提高100％更快速的产出。