期刊文献+

基体负偏压对膜层形貌与性能的影响 被引量:5

Effects of Substrate Negative Bias Voltage on Morphology and Properties of Film
下载PDF
导出
摘要 用多弧离子镀技术在40Cr基体上制备Ti0.33Al0.67N复合膜层;分析基体负偏压对膜层形貌、厚度、结合力及显微硬度等性能的影响。结果表明,基体负偏压参数设计范围内存在一个最佳值,可获得最优性能的膜层。 Abstraet:40Cr steel substrate was coated with Ti0.~lo.67N films by Multi-arc ion technology. The effects of substrate negative bias voltage on film morphology, thickness, bonding strength and microhardness and other properties of the films were analyzed. The results show that the substrate negative bias parameters design is within the scope of the existence of an optimal value, in order to get the optimal performance of the film.
出处 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2013年第14期103-105,共3页 Hot Working Technology
基金 重庆大学机械传动国家重点实验室2009年度开放基金资助项目(SKLMT-KFKT-200907)
关键词 多弧离子镀 离子渗氮 制备工艺 multi-arc ion plating ion nitriding preparation technology
  • 相关文献

参考文献6

二级参考文献68

共引文献85

同被引文献111

引证文献5

二级引证文献19

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部