IC离子注入工艺的薄层电阻等值图监控被引量：2

Monitor of Ion Implantation in IC Process by Contour Map of Sheet Resistance

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摘要主要介绍了测试薄层电阻等值图所反映出 IC离子注入工艺存在的种种问题 ,以及改进结果和进行有效的监控 ,这对 IC生产是非常重要的。 Problems with ion implantation in IC process are discussed. Improvement and effective monitoring based on the contour map o f sheet resistance are described in the paper.

作者周全德

机构地区上海市计量测试技术研究院

出处《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2000年第6期410-414,共5页 Microelectronics

关键词薄层电阻等值图离子注入集成电路工艺 Sheet Resistance Contour map Ion Implantation IC process

分类号 TN405.3 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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相关文献

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微电子学

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