“七五”期间我国特种气体及配套件研制取得重大进展
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1闻瑞梅.大规模集成电路制造工艺对特种气体的要求[J].低温与特气,1991,9(4):1-8. 被引量：2
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2望鲁.新工具推动数字信号控制器的开发[J].电子制作,2004,12(8):49-49.
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3陈继传.今后我国彩电主流机型及其配套件简介[J].江苏电子月刊,1989(10):13-15.
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4王明山,张广明.特气在硅与氧化层界面的应用[J].低温与特气,1992,10(3):59-60.
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5原田光,康显澄,刘振烈,韩美.半导体工艺中使用的特种气体[J].低温与特气,1984,2(2):1-18. 被引量：1
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6Spectra Gases:特种气体助力光刻技术的延伸[J].集成电路应用,2007,24(3):26-26.
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7迎接中国液晶时代FPD China 2011全面启动[J].现代显示,2010(8):53-53.
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8FPD China 2005成功举办[J].中国集成电路,2005(4):12-12.
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92004中国国际平面显示器件、设备材料及配套件展将于8月11—13日举行[J].电子与电脑,2004(5):145-145.
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102004中国国际平面显示器件、设备材料及配套件展即将举行[J].中国集成电路,2004(5):25-25.
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