ULSI工艺用纯水和清洗材料
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1和德林,朱瑞廉,王瑞庭.电子元件的清洗工艺与清洗剂[J].洗净技术,2004(1):5-8. 被引量:3
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2下野次男,文汉.ULSI半导体工艺用药品[J].电子材料(机电部),1991(8):6-12.
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3王宇,王珏,方利江.全媒体融合下的电视中心工艺设计[J].广播与电视技术,2016,43(10):30-35. 被引量:1
-
4徐增禧.半导体器件工艺用的气体[J].微电子学,1989,19(1):80-85.
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5电子元件的清洗工艺与清洗剂[J].电子电路与贴装,2004(5):42-44.
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6LeoGreco.清洗方法:发展动态与新技术—行业专家评说当前及今后的新型清洗材料[J].电子电路与贴装,2002(6):80-81.
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7联电试制采用high-k金属栅极的45nm工艺SRAM[J].中国集成电路,2008,17(12):4-4.
-
8工艺用高功率CO_2激光器的光学系统[J].国外激光,1994(10):9-13.
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9刘宜家.简谈半导体制造工艺用高纯气体[J].四川有色金属,1990(1):36-57.
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10丁建良,俞亚君.半导体制造工艺用化学药品的现状和展望[J].化工新型材料,1998,26(11):3-7. 被引量:2
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