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光学薄膜用真空镀膜机的进展

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摘要 本文叙述了电阻加热蒸发和电子束加热蒸发真空镀膜机的进展。其次对蒸发源和蒸发速率、真空度对铝膜质量的影响、减少污染和电子束蒸发以及镀膜厚度及均匀性控制等作简单介绍。
作者 程开富
出处 《电子工业专用设备》 1991年第2期39-43,共5页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
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