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光学薄膜用真空镀膜机的进展
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摘要
本文叙述了电阻加热蒸发和电子束加热蒸发真空镀膜机的进展。其次对蒸发源和蒸发速率、真空度对铝膜质量的影响、减少污染和电子束蒸发以及镀膜厚度及均匀性控制等作简单介绍。
作者
程开富
机构地区
机电部第四十研究所
出处
《电子工业专用设备》
1991年第2期39-43,共5页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
光学薄膜
真空镀膜机
真空镀膜
分类号
TN305.8 [电子电信—物理电子学]
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