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BG-101J分步光刻机在四十五所研制成功
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摘要
一种新型分步重复直接投影光刻机(DSW)——BG—101J分步光刻机最近在机电部第45研究所研制成功。北京半导体器件三厂对该机进行了考核验收,认为其主要技术指标全部达到设计要求。
作者
周得时
出处
《电子工业专用设备》
1991年第3期69-70,共2页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
半导体器件
分步光刻机
光刻机
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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电子工业专用设备
1991年 第3期
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