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国外光学微细加工设备集锦

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摘要 ALS Lasertep 200机是GCA公司1988年初投放市场的第二代准分子激光分步投影曝光设备。它采用KrF准分子激光源和自行设计的Fropol—2144KrF镜头,曝光波长248毫微米,数值孔径0.44,视场尺寸15×15平方毫米,分辨率为0.4微米。其同机套刻精度0.13微米,异机套刻精度0.16微米,最大加工片径为200毫米,每小时可曝光六英寸圆片33枚。售价216万美元。
出处 《电子工业专用设备》 1991年第3期62-68,共7页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
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