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针对连续式化学镀的清洗技术

Cleaning Technology for Continuous Electroless Plating
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摘要 连续式化学液镀的清洗具有连续工作、用水量大的特点,特别对于镀液中含有有毒离子时,废液处理费用昂贵。针对连续式化学镀的这一特点,介绍了一种"三级溢流、六级清洗"的清洗方式,能够在保证清洗效果的同时大大降低废液的产生量。 C ontinuous electroless plating cleaning w ith continuous,large w ater consum ption,w aste watertreatmentofwhichisexpensive,especiallyforthebathcontainthetoxicions.Forthisfeature, this paper introduced a“T hree overflow ,six cleaning”m ethod,w hich can ensure the cleaning effect w hile significantly reducing the am ountofw aste w atergenerated.
出处 《电子工业专用设备》 2013年第7期7-8,36,共3页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词 连续式 化学镀 清洗 C ontinuous E lectroless plating C leaning
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参考文献2

二级参考文献1

  • 1Michael Quirk Julian Serda.Semiconductor Manufacturing Technology[M]北京:电子工业出版社.

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