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物体界面的光化学清洁方法

PHOTOCHEMICAL CLEANING METHOD FOR THE INTERFACE
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摘要 本文介绍了一种应用光化学方法清除粘附在物体界面上的有机化合物的实验;给出了它的工作机理,实验方法以及俄歇电子能谱分析结果。实验结果表明,应用紫外光/臭氧不仅能够彻底地清除粘附在物体表面上的碳和碳氢化合物,同样可能彻底地清除粘附在物体界面上的污染物。 An experiment of cleaning the organic molecules absorbed on the interface with photochemical method is described. The mechanism, the experimental method and the AES results are given. The results show that the photosensitized oxidation process of UV/O3 for the organic molecules is effective not only for the surface but also for the interface of sub-itances.
作者 谈凯声
出处 《电子科学学刊》 CSCD 1991年第6期659-662,共4页
关键词 物体表面 光化学 清洁法 电子能谱 Photochemical cleaning Interface AES analysis
  • 相关文献

参考文献4

  • 1谈凯声,半导体学报,1990年,11卷,301页
  • 2谈凯声,半导体学报,1989年,10卷,236页
  • 3谈凯声,电子科学学刊,1986年,8卷,155页
  • 4谈凯声,真空科学和技术,1986年,6卷,42页

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