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硅中的氮氧复合物及其施主行为

Nitrogen-oxygen complexes in silicon and their donor action
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摘要 含氮 CZ硅的电学性能完全有别于含氮的 FZ硅和无氮的 CZ硅 .研究表明 ,含氮 CZ硅能形成一种与氮有关的新施主 ,它随氮氧复合物的形成而形成 ,随氮氧复合物的消失而消失 .文章进一步研究了氮 -新施主的形成和消除与热处理条件的关系 。 The electronic characteristic of nitrogen\|doped CZ silicon is completely different from that of nitrogen\|doped FZ silicon and nitrogen\|undoped CZ silicon . Our research shows that nitrogen\|doped CZ silicon can generate a kind of nitrogen related new donor which forms and disappears with the formation and disappearance of nitrogen\|oxygen complexes respectively. This paper studies further the relationship between the formation and disappearance of nitrogen\|new donor and heat treatment condition, and the experimental results are discussed.
出处 《浙江大学学报(自然科学版)》 CSCD 2000年第6期660-664,共5页
关键词 氮-氧复合物 氮-新施主 CZ硅 半导体材料 热处理 nitrogen\|oxygen complexes nitrogen\|new donor CZ silicon
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献7

  • 1祁明维,半导体学报,1991年,12卷,218页
  • 2杨德仁,半导体学报,1991年,12卷,509页
  • 3刘培东,中南矿冶学院学报,1991年,22卷,696页
  • 4刘培东,Phys Scr
  • 5刘培东,半导体学报,1992年,13卷,698页
  • 6祁明维,半导体学报,1991年,12卷,218页
  • 7刘培东,中南矿冶学院学报,1991年,22卷,696页

共引文献8

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