光学膜厚监控技术

影响光学薄膜器件特性的众多因素中,膜层的折射率和光学厚度是两个最重要的因素。尤其对正在淀积的膜层的折射率精确测量极为困难,膜厚监控便成为了薄膜制备成败的关键。文章介绍了几种典型膜厚监控方法基本工作原理和最新进展。