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GaAs中Be受主的光热电离光谱研究 被引量:1

PHOTOTHERMAL IONIZATION SPECTROSCOPY OF BE ACCEPTOR IN GaAs
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摘要 应用光热电离光谱方法研究了 MBE生长 Ga As薄膜中 Be受主的杂质能级 .通过与理论计算的比较 ,将观测到的 3个跃迁峰归属于 G线、C线和 D线跃迁 ,同时在实验上也观察到 Be受主 1s3/ 2 (Γ+ 8)态到 2 p1 / 2 (Γ- 6 )态跃迁 ,由实验结果算得 Be受主的电离能为 2 8.6 me V. The photothermal ionization spectroscopy (PTIS) was employed to study Be shallow acceptor states in MBE grown GaAs films. The G line, C line and D line transitions were observed and attributed to the ones from the ground state 1s 3/2 (Γ + 8) of Be acceptor to the first three excited odd parity states 2p 3/2 (Γ - 8), 2p 5/2 (Γ - 8) and 2p 5/2 (Γ - 7), respectively throngh comparison with theoretical calculation. The transition from the ground state 1s 3/2 (Γ + 8) to the excited state 2p 1/2 (Γ - 6) was also observed. According to the PTIS, the binding energy of Be acceptor in GaAs was deduced to be 28.6meV.
出处 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期385-388,共4页 Journal of Infrared and Millimeter Waves
基金 国家自然科学基金!(编号 196740 60 )资助项目&&
关键词 浅杂质 受主 光热电离光谱 砷化镓 半导体 shallow impurity, acceptor, photothermal ionization spectroscopy.
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