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HBES玻璃制作菲涅尔透镜灰度掩模的研究
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摘要
从HEBS玻璃能量作用机理和曝光量与透过率关系着手,研究利用电子束直写曝光的方法,在HEBS玻璃上制作8阶菲涅尔透镜变灰阶掩模,得到掩模最大透过率为44.8%,最小透过率为8.7%。利用该掩模制得菲涅尔透镜衍射效率高达91%,证实利用HEBS玻璃制作灰阶掩模的可行性及实用性。
作者
王丽
董连和
季振强
陈哲
机构地区
长春理工大学光电工程学院
出处
《技术与市场》
2013年第12期150-150,共1页
Technology and Market
关键词
HEBS玻璃
灰阶掩模
电子束直写
菲涅尔透镜
分类号
O435.2 [机械工程—光学工程]
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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技术与市场
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