摘要
磁控溅射技术在薄膜制备领域有着广泛的应用。本文在介绍磁控溅射法制备薄膜材料的基本原理和流程基础之上,详细分析了溅射工艺参数(溅射功率、温度、溅射气压、氧分压)对BST薄膜性能的影响,并提出了研究中需要解决的一些问题。
The method of magnetron sputtering deposition is widely applied in the field of the preparation of thin films. Effects of magnetron sputtering parameters (sputtering power, temperature, sputtering pressure, oxygen partial pressure) on the properties of BST thin films have been investigated on the basis of introducing basic principle and process of the magnetron sputtering method. Finally, some technical problems to be solved are discussed.
出处
《硅酸盐通报》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第12期2544-2549,共6页
Bulletin of the Chinese Ceramic Society
基金
国家自然科学基金资助项目(51102288)
重庆市自然科学基金资助项目(2010BB4286
2011BA4027)
重庆市教委科学技术研究资助项目(KJ121408)
重庆科技学院校内基金资助项目(CK2010Z07)
关键词
磁控溅射
BST薄膜
工艺参数
性能
magnetron sputtering
BST thin film
process parameter
property