用反应离子腐蚀技术制作DFB激光器中的光栅
Grating of DFB Lasers through Reactive Ion Etching
出处
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
1991年第11期1-3,共3页
Chinese High Technology Letters
关键词
激光器
光栅
半导体
反应离子腐蚀
Microfabrication
Reactive Ion Etching
Semiconductor Lasers
Ⅲ-Ⅴ Compound
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