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制作重铬酸盐明胶微光学元件的化学裂解刻蚀方法

Chemically Cleaving-etch Method for Fabricating Microoptical Elements in Dichromated Gelatin
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摘要 从生物化学和蛋白质的裂解机制出发 ,提出一种新的重铬酸盐明胶 (DCG)浮雕形成方法———化学裂解刻蚀法。由于化学裂解试剂较胰蛋白酶具有少得多的作用位点 ,化学裂解方法比明胶酶蚀方法具有更高的刻蚀分辨率。实验考察表明 ,化学裂解方法可以获得 5 0 0lines mm的刻蚀分辨率。应用化学裂解方法 ,利用投影曝光系统和灰度掩摸 ,制作了单元线宽为 30 μm ,深度为 0 8μm的连续浮雕明胶微棱镜列阵。 Chemically cleaving-etch method was presented to form relief modulation in gelatin based on the analysis on the cleavage of protein. Thank to the much fewer number of cleavage site for chemical cleavage than that for enzyme, chemical cleavage method was of higher etching resolution and better profile fidelity. The predication was proved to be right and experiments showed that relief modulation resolution was got to 500 lines/mm spatial frequency, which was much higher than enzyme method. With the projection exposure system, a micro-prism array with 30 μm wide and 0.8 μm high cell dimension was fabricated using the chemically cleaving-etch method.
出处 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期146-150,共5页 Chinese Journal of Lasers
基金 中国博士后科学基金 清华大学机械学院基础基金资助课题
关键词 化学裂解 微光学元件 重铬酸盐明胶 chemical cleavage, microoptical elements, continuous relief, dichromated gelatin
  • 相关文献

参考文献4

  • 1Lin Pang,SPIE 3559,1998年,60页
  • 2Tian Weijian,光学学报,1998年,18卷,6期,757页
  • 3Zhuang Sicong,光学学报,1997年,17卷,11期,1576页
  • 4Tang Jiyue,中国激光,1997年,24卷,4期,302页

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