PECVD非晶SiO_x∶H薄膜的Si—O—Si键红外吸收特性研究

Infrared Absorption Properties of Si— O —Si Bonds in Plasma-deposited Amorphous SiOx∶H Films

用傅里叶红外光谱 (FT -IR)测试分析了等离子体化学气相沉积法沉积的非晶SiOx∶H(0≤x≤ 2 0 )薄膜中的Si—O—Si伸缩振动模与氧含量x的关系。Si—O—Si伸缩振动模在 10 0 0和 115 0cm-1有两个吸收峰。 10 0 0和 115 0cm-1吸收带的积分吸收强度之和Isum与薄膜中的Si原子密度NSi之比Isum/NSi,在x =0～ 2 0范围内与x成正比。求得比例系数ASiO(Si—O—Si谐振子强度的倒数 )为 1 48× 10 19cm-1。用此比例系数可快速简便地用FT IR求出膜中的氧含量。