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P型GaN和AlGaN外延材料的制备 被引量:1

Growth of P-type GaN and AlGaN Epitaxial Films
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摘要 研究了MOVPE方法外延P型GaN和Al0 13Ga0 87N的生长工艺 ,包括掺杂剂量和热退火条件 ,对材料电学性质的影响。得到了性能优良的P型材料 ,并研制了InGaN/AlGaN双异质结蓝光发光二极管。 The growth techniques of P type GaN and Al 0 13 Ga 0 87 N by MOVPE, including the doping dosage and thermal anneal, and their influences on the electrical property of the materials are studied. High quality P type GaN and Al 0 13 Ga 0 87 N epitaxial films are obtained and InGaN/AlGaN double heterojunction blue light emitting diode is fabricated.
出处 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2000年第8期26-29,共4页 Chinese High Technology Letters
基金 863计划!( 863 715 0 0 1 0 0 10 ) 国家自然科学基金!(6978960 1)资助项目
  • 相关文献

参考文献5

  • 1Liu X L,J Cryst Growth,1998年,193卷,23页
  • 2Khan M A,Appl Phys Lett,1995年,66卷,2046页
  • 3Rubin M,Appl Phys Lett,1994年,64卷,64页
  • 4Lin M E,Appl Phys Lett,1993年,63卷,932页
  • 5Wang C,Appl Phys Lett,1993年,63卷,990页

同被引文献5

引证文献1

二级引证文献6

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